鋼研納克雙向觀測(cè)Plasma 3000 ICP光譜儀分光系統(tǒng)

儀器采用徑向觀測(cè)與軸向觀測(cè)設(shè)計(jì)，適應(yīng)亞ppm到高含量的元素測(cè)量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，使用CaF2棱鏡，提高光路傳輸效率。

優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計(jì)，采用非球面光學(xué)元件，改善成像質(zhì)量，提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術(shù)，縮短光室充氣時(shí)間，提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性，開機(jī)即可測(cè)量。 包圍式立體控溫系統(tǒng)，保障光學(xué)系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定無(wú)漂移。

光源

固態(tài)射頻發(fā)生器，穩(wěn)定，體積小巧，匹配速度快

冷錐消除尾焰技術(shù)，地降低自吸效應(yīng)和電離干擾，從而獲得更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更 低的背景，保證準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果。 具有綠色節(jié)能待機(jī)模式，待機(jī)時(shí)降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運(yùn)行，節(jié)約使用成本。

簡(jiǎn)潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì)，icp光譜儀廠家，快速定位，的位置重現(xiàn)。 實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù)，CAN工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)總線，保障通訊可靠。

進(jìn)樣系統(tǒng)

簡(jiǎn)潔的炬管安裝設(shè)計(jì)，自動(dòng)定位炬管位置，的位置重現(xiàn)。

ICP光譜儀使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測(cè)試性能長(zhǎng)期穩(wěn)定。 多通道12滾輪蠕動(dòng)泵，提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性。

檢測(cè)器

大面積背照式CCD檢測(cè)器，全譜段響應(yīng)，高紫外量化效率，抗飽和溢出，具有極寬的動(dòng)態(tài)范

圍和極快的信號(hào)處理速度。 一次曝光，完成全譜光譜信號(hào)的采集讀取，從而獲得更為快速、準(zhǔn)確的分析結(jié)果。

ICP光譜儀具有同類產(chǎn)品中靶面尺寸，像素，單像素面積24μm X 24μm，三級(jí)半導(dǎo)體制冷，制冷溫 度 低，具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性。

軟件系統(tǒng)

人性化的界面設(shè)計(jì)，流暢易懂，簡(jiǎn)便易用，針對(duì)分析應(yīng)用優(yōu)化的軟件系統(tǒng)，無(wú)須復(fù)雜的方法開發(fā)， 即可快速開展分析操作。

豐富的譜線庫(kù)，智能提示潛在干擾元素，幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測(cè)方式設(shè)置，直觀的測(cè)試結(jié)果顯示。

安全防護(hù)

電磁屏蔽，減少電磁輻射 連鎖門保護(hù)，避免用戶誤操作可能帶來(lái)的風(fēng)險(xiǎn) 防紫外觀測(cè)窗

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草ICP-AES

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》

儀器信息網(wǎng)訊 2014年10月28日，委決定發(fā)布通知對(duì)2014年第二批擬立項(xiàng)項(xiàng)目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國(guó)家推薦標(biāo)準(zhǔn)。主管部門為中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)，歸口單位為國(guó)工業(yè)過程測(cè)量和控制標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)會(huì)，起草單位為鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司，計(jì)劃完成時(shí)間為2016年。

《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》標(biāo)準(zhǔn)將規(guī)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀的術(shù)語(yǔ)與縮略語(yǔ)、分類、要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存。

據(jù)介紹，制定該標(biāo)準(zhǔn)旨在提升我國(guó)ICP光譜儀的生產(chǎn)制造規(guī)范性，使儀器性能穩(wěn)定;通過規(guī)范生產(chǎn)提高ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè)準(zhǔn)入門檻，形成具有競(jìng)爭(zhēng)力的企業(yè)。從而縮小國(guó)產(chǎn)儀器同國(guó)外儀器的性能差距，提高國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀的市場(chǎng)占有率。對(duì)ICP光譜儀產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要和積極的意義。

項(xiàng)目起草單位鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司研發(fā)生產(chǎn)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀始于2006年，2009年10月，鋼研納克開發(fā)了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀，采用中階梯光柵光學(xué)結(jié)構(gòu)和科研級(jí)CCD檢測(cè)器實(shí)現(xiàn)全譜采集，該儀器是鋼研納克“國(guó)家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)”成果。

鋼研納克：固態(tài)光源ICP，國(guó)產(chǎn)單道掃描ICP進(jìn)入固態(tài)光源時(shí)代

穩(wěn)健的全固態(tài)光源ICP光譜儀 鋼研納克 Plasma 1500

全固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小、，全自動(dòng)負(fù)載匹配，速度快、精度高，全固態(tài)光源ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性的測(cè)試，具有優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

垂直炬管的設(shè)計(jì)，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。

簡(jiǎn)潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì)，快速定位，的位置重現(xiàn)。

具有低功率待機(jī)模式，待機(jī)時(shí)降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運(yùn)行，節(jié)約使用成本。

實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù)，以太網(wǎng)及CAN工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)總線，保障通訊可靠。